Neues SPECTRO GENESIS ICP-OES bietet ein neues Maß an Messempfindlichkeit und Effizienz

SPECTRO Analytical Instruments hat die Einführung des neuen SPECTRO GENESIS ICP-OES bekannt gegeben. Das leistungsstarke Elementanalysegerät bietet dank zahlreicher Verbesserungen eine deutlich höhere Messempfindlichkeit, ein neues, kompaktes Design, eine verbesserte Bedienbarkeit sowie modernste Technologien.

Für viele Umwelt-, Industrie- und Forschungslabore ist das SPECTRO GENESIS das kostengünstige Gerät der Wahl, zum Beispiel für die einfache Analyse von Abwässern, petrochemischen oder chemischen Proben. Das neue SPECTRO GENESIS ist jetzt noch einfacher zu bedienen und punktet mit weiter verbesserter Langlebigkeit und hohem Probendurchsatz – bei erstaunlich niedrigen Gesamtkosten. Der hohe lineare dynamische Bereich ermöglicht Analysen vom ppb- bis in den Prozentbereich. Zudem sorgt das neue DSOI-Plasma-Interface für eine deutlich höhere Messempfindlichkeit und ermöglicht schnelle und präzise Analysen für eine Vielzahl von Anwendungen in der Emissions- und Prozesskontrolle.
Zu den Verbesserungen, die das SPECTRO GENESIS als den „Goldstandard“ unter den Spektrometern für die Routine-Analytik bestätigen, zählen:

• Deutlich verbesserte Messempfindlichkeit durch das Upgrade auf die einzigartige Dual Side-On Interface (DSOI) Plasmabetrachtungstechnologie von SPECTRO. Dadurch entfällt die bei der dualen Plasmabetrachtung übliche zweite Messung, Matrixeffekte werden reduziert und die Richtigkeit verbessert. Zudem ermöglicht die hohe Matrixtoleranz Analysen in geringeren Verdünnungen. Das Ergebnis: Das SPECTRO GENESIS eignet sich für ein noch breiteres Anwendungsspektrum in den Bereichen Organik, Wasser, Abwasser und Prozesskontrolle.
• Die neu gestaltete Form des Gerätes kombiniert außergewöhnliche Robustheit mit reduzierter Größe und geringerem Gewicht, was die Installation auf engen Labortischen erleichtert.
• Die neue Ergonomie verbessert die Effizienz der Gerätebedienung deutlich: ein neues Plasmafackel-Montage-Bajonett ermöglicht eine schnelle und einfache Installation der Fackel; das neue Anschlusslayout bietet einen barrierefreien Zugang; kurze Flüssigkeitswege vereinfachen den Probeneintrag und verkürzen die Probe-zu-Probe-Zeiten; und ein optionales intelligentes Schaltventilsystem erlaubt ein schnelles Laden der Proben.
• Die neuen Solid State Detektoren basieren auf CMOS-Zeilensensoren (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) und sind in der Lage, auch schwache Signale von Spurenelementen zu messen. Darüber hinaus bieten CMOS-Sensoren einen hohen Dynamikbereich, benötigen keine „On-Chip“ Kühlung und sind frei von „Blooming“.
• Das neue Hochgeschwindigkeits-Auslesesystem erreicht eine kurze Integrationszeit von 0,1 Millisekunden und einen größeren Dynamikbereich. Damit können Signale in direkter Nähe intensiver Matrixlinien problemlos gemessen werden.
• Ein aktualisierter LDMOS-Generator (lateral diffused metal oxide semiconductor) liefert bis zu 1.700 W Leistung und zeichnet sich durch eine hohe Plasmarobustheit und damit durch eine hohe Matrixkompatibilität aus. Dadurch können Proben in geringerer Verdünnung gemessen werden, was die Nachweisempfindlichkeit verbessert. Der Aufwand für die Probenpräparation kann gegebenenfalls reduziert werden oder sogar ganz entfallen.
• Die zeitgesteuerte Aufwachfunktion spart Gas und Energie. Zu einem festgelegten Zeitpunkt wird dabei automatisch der Betriebsbereitschaftszustand aktiviert.

Darüber hinaus maximieren die AMECARE Performance Services die Betriebszeit aller Elementanalysegeräte von SPECTRO. Hunderte von erfahrenen Service-Ingenieuren in 50 Ländern bieten hochwertigen, maßgeschneiderten Support, um eine optimale Leistung und eine möglichst lange Lebensdauer der Geräte zu gewährleisten.

Das neue SPECTRO GENESIS ICP-OES ist ab sofort über SPECTRO Analytical Instruments erhältlich. Weitere Informationen finden Sie auf www.spectro.de oder per E-Mail: spectro.info@ametek.com.