1. Was ist ICP-OES?
Die optische Emissionsspektroskopie (ICP-OES) mit induktiv gekoppelter Plasmaanregung ist ein Analyseverfahren, das zur Bestimmung der Elementzusammensetzung von Proben eingesetzt wird. Dazu wird in einem Hochtemperatur-Argonplasma die zerstäubte Probe verdampft und in ihre atomaren Bestandteile zerlegt. Atome und Ionen, die sich ebenfalls in dem heißen Plasma bilden, werden zur Emission elementspezifischer Strahlung mit charakteristischen Wellenlängen angeregt. Das emittierte Licht wird von einem Spektrometer in die spektralen Bestandteile zerlegt und analysiert und so der Gehalt der Elemente in der Probe quantifiziert. Die ICP-OES wird wegen ihrer hohen Matrixkompatibilität und ihrer Fähigkeit, Spuren-, Neben- und Hauptelemente zu bestimmen, und ihrer großen Anwendungsbreite in der Umwelt-, Pharma- und Industrieanalytik geschätzt.
2. Wie analysiert man ICP-OES-Daten und was sagen sie aus?
Bei der ICP-OES-Datenanalyse werden die im Plasma erzeugten Lichtspektren interpretiert, um die Elementzusammensetzung einer Probe zu bestimmen. Nach der Spektrenerfassung und der Extraktion der Lichtintensität für gewählte Wellenlängen aus dem Emissionsspektrum werden die Daten anhand von Kalibrierkurven, die aus Standardlösungen mit bekannten Konzentrationen erstellt wurden, weiterverarbeitet. Dabei werden aus den Peak-Maximum Intensitäten der gewählten elementspezifischen Wellenlängen über die Auswertefunktionen der Kalibrierungen die Elementkonzentrationen berechnet. Die Bestimmung der Elementzusammensetzung der Probe ist ein wichtiger Parameter bei Anwendungen wie der Umweltüberwachung und der Qualitätskontrolle in der Industrie.
3. Was sind die Stärken und Grenzen der ICP-OES?
Die Stärken der ICP-OES sind die Multielementfähigkeit mit hoher Matrixkompatibilität und Nachweisempfindlichkeit, ausgezeichnete Kurz- und Langzeitstabilität sowie der große Dynamikbereich. Damit ist eine schnelle und präzise Bestimmung von Elementen vom Spurenbereich bis hin zu hohen Konzentrationen möglich und die Methode auch für hohen Probendurchsatz geeignet. An Grenzen stößt die ICP-OES, wenn für bestimmte toxische Schwermetalle sub-ppb-Gehalte bestimmt werden müssen. Für diese Aufgabe, die sich in der Umweltkontrolle, bei der Analyse bestimmter Lebensmittel und für Arzneimittel stellt, wird heute eher die ICP-MS-Technik verwendet. Diese Methode ist jedoch komplementär. Die ICP-OES bleibt für diese Anwendungen aufgrund ihrer geringeren Kosten und ihrer einfachen Anwendung weiterhin unverzichtbar.
4. Welche ICP-OES-Plasmabeobachtungstechnik ist die beste?
„Die“ beste Betrachtungsstechnik gibt es eigentlich nicht. Vielmehr gibt es spezifische Techniken für spezifische analytische Aufgaben. Eine
Doppelplasmabetrachtung wie mit dem „Twin Interface“ ist das ideale System, wenn neben der Spurenelementanalyse auch die genaue Bestimmung von Elementen der Gruppen 1 und 2 in einer variierenden Matrix derselben Elemente erforderlich ist. Wenn dies nicht der Fall ist, sondern die Aufgabe darin besteht, Spuren von Metallen zu bestimmen, erfüllt ein dediziertes
axiales System die Aufgabe am besten. Wenn es jedoch um hohe Präzision, hohe Salztoleranz und organische Anwendungen geht, ist ein
radiales Interface und eine vertikale Plasmafackelausrichtung die bessere Wahl als Systeme mit horizontaler Fackelausrichtung.
MultiView schließt die Lücke, in der für verschiedene analytische Aufgaben eine spezielle Plasmabetrachtungstechnik bevorzugt wird. Es bietet alle Vorteile beider Techniken, ohne die Nachteile eines klassischen Dual-View-Systems, und damit optimale analytische Leistung.
Die
DSOI-Technologie ist eine leistungsstarke Technik, die die einfache radiale Plasmabetrachtung mittlerweile weitgehend ersetzt hat. Sie bietet eine deutliche Steigerung der Nachweisempfindlichkeit und bessere Nachweisgrenzen für Umwelt- und Industrieanwendungen. Die Technik bietet eine extrem hohe Matrixkompatibilität und eine vergleichbare analytische Leistung wie Dual-View-Systeme mit vertikaler Plasmafackel. Selbst im Vergleich zur axialen Plasmabeobachtung mit direktem Lichtweg beträgt der Empfindlichkeitsunterschied nur Faktor zwei. Die klassischen Vorteile der radialen Betrachtungstechnik wie die Freiheit von Matrixinterferenzen, hohe Linearität und Stabilität sind zusätzliche Vorteile.
5. Welche optischen Designs werden bei der ICP-OES verwendet?
Heutige ICP-OES gibt es in drei optischen Designs.
Czerney-Turner-Monochromatoren sind heute eher eine Nischentechnologie, da Polychromatorsysteme mit Halbleiterdetektoren eine ähnliche Flexibilität bei erheblich höherer Geschwindigkeit bieten. Wenn jedoch eine hohe optische Auflösung bei Wellenlängen über 400 nm erforderlich ist, haben Czerney-Turner-Systeme bei entsprechendem Design Vorteile, auch wenn sie langsam sind und die Bestimmung von Konzentrationen im Spurenbereich oft Probleme bereitet.
ICP-OES mit Echelle-Polychromatoren werden am häufigsten für Standardanwendungen verwendet, da sie im 200-nm-Bereich, in dem die meisten toxischen Schwermetalle ihre Hauptemissionslinie haben, eine gute Leistung bieten. Schwerere oder linienreichere Matrizes sind jedoch problematischer. Ein höheres Streulichtniveau, Ordnungsüberschneidungen und eine allgemein geringere Auflösung im Wellenlängenbereich über 250 nm machen die analytische Arbeit zumindest schwierig.
ORCA-Paschen-Runge-Systeme bieten im Gegensatz dazu eine hervorragende Leistung im UV/VUV sowie eine hohe Auflösung über einen breiten Spektralbereich. Abgesehen von der Größe haben ORCA-Systeme nur wenige Nachteile. Die Technologie eignet sich besonders gut für anspruchsvolle Arbeiten, schwerere oder linienreiche Matrices und ist daher eine gute Wahl, wenn höchste Leistung gefragt ist.
6. Welchen Wellenlängenbereich sollte ein ICP-OES haben?
Mit der ICP-OES lassen sich für die meisten der mehr als 75 analysierbaren Elemente Nachweisgrenzen im ppb-Bereich erreichen. Während die Mehrheit der Elemente ihre primären Emissionslinien im Wellenlängenbereich von 160 bis 400 nm haben, benötigen Alkalimetalle den sichtbaren Spektralbereich bis 800 nm. Bestimmte Metalle, Nichtmetalle und die Halogene benötigen den Zugang zum UV- und Vakuum-UV-Bereich von 130 bis 160 nm. Darüber hinaus haben 20 % aller Elemente ihre empfindlichste Emissionslinie im Bereich unter 190 nm. Und auch die Störungsfreiheit ist ein Vorteil des Zugangs zum UV- und VUV-Bereich. Wenn also Leistung gefragt ist, ist der UV- und VUV-Spektralbereich wichtig.
7. Was ist der Unterschied zwischen einem ICP-OES-Generator mit 27,12 und 40,68 MHz?
Gemäß der Definition der Internationalen Fernmeldeunion (ITU-R) ist der tolerierte Frequenzbereich bei 27 MHz viel größer als bei 40 MHz. Da die Probe Teil des Schwingkreises ist, ändert sich je nach Probenlast die Resonanzfrequenz. Wenn eine Änderung nicht mehr möglich ist, weil sie die obere oder untere Grenze erreicht, arbeitet der Schwingkreis außerhalb seiner Resonanzfrequenz. Dies bedeutet, dass die Leistung weniger effizient in das Plasma übertragen wird. Um das Plasma zu erhalten, muss dies durch eine Regelung der Leistung kompensiert werden. Es gibt jedoch eine Grenzen bis zu der dies möglich ist. Wird die überschritten, stoppt das Plasma. Aufgrund der größeren Bandbreite ist dies bei einem freilaufenden System, das mit 27 MHz arbeitet, weniger wahrscheinlich. Es passt sich viel besser an extreme Belastungen an.
Dies wird heute durch den Einsatz modernster Halbleitertechnologie mit einem 27-MHz-System freilaufenden Typs erreicht. LDMOS-Hochleistungstransistoren sind für diese Aufgabe perfekt geeignet. LDMOS-Generatoren sind extrem agil, benötigen kein mechanisches Anpassnetzwerk und haben die gleichen Eigenschaften wie ein freilaufende Röhrensysteme. Sie sind daher wesentlich leistungsfähiger und robuster, bieten die Leistungsreserve auch für extreme Plasmalasten, während des freilaufende Design bei 27 MHz garantiert, dass die Leistung unabhängig von der Last effektiv in das Plasma übertragen wird.